北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铝靶材及铝的相关镀膜产品，主要包括：

1、 高纯铝靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铝靶材。

2、 高纯铝靶材纯度为：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。

3、 高纯铝靶材的规格：（1）平面靶材如Ø100*5mm平面高纯圆铝靶，150*100*3平面高纯板铝靶材，（2）磁控溅射用高纯铝靶：Ø100*120柱靶等。

4、 高纯铝靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。

5、 高纯铝靶材加工工艺：车，铣，等。

6、高纯铝靶材相关参数的介绍：外观：银白色密度：2.70 g/cm3  熔点： 660℃沸点：2463℃ 。以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯铝靶的相关介绍，高纯铝靶材规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问，请来电咨询！

北京冠金利新材料科技有限公司高纯单质溅射靶

高纯铝靶Al 高纯铜靶Cu 高纯铁靶Fe 高纯钛靶Ti 高纯镍靶Ni

高纯镁靶Mg高纯铬靶Cr 高纯锌靶Zn 高纯银靶Ag 高纯钴靶Co

高纯铌靶Nb 高纯锡靶Sn 高纯铟靶In 高纯锆靶Zr 高纯钽靶Ta

高纯锗靶Ge 高纯硅靶Si  高纯钨靶W 高纯铪靶Hf 高纯钇靶Y

高纯钆靶Gd 高纯钐靶Sm 高纯镝靶Dy 高纯铈靶Ce 高纯镧靶La

高纯金靶Au 高纯不锈钢靶 高纯石墨靶C 高纯硒靶Se高纯钼靶Mo

高纯铂靶Pt 高纯铅靶Pb   高纯镨靶Pr  高纯铽靶Tb 高纯钬靶Ho

高纯镱靶Yb 高纯铥靶Tm 高纯镥靶Lu  高纯铒靶Er 高纯钪靶Sc

以上是北京冠金利新材料科技有限公司单质溅射靶种类，根据金属靶种类的不同，靶所能达到的较高纯度也不相同，纯度一般为99.9%-99.9999%之间，根据溅射设备的不同，以上靶常用形状规格有圆靶、板靶、旋转柱靶、旋转管靶、圆台靶、阶梯靶等，可根据您的要求定做，如果您有以上靶需要，请来电咨询，我们会用诚信和品质给您一个满意的答复。