• 一、 设备基本原理及主要用途

• 1. 设备用途

• 适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。本设备具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高，处于国内优异水平。根据不同的使用气氛及使用温度，使用不同的加热元件，型号齐全，对需在惰性气体环境下烧结的材料，本设备是一个非常好的选择，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

• 二、 主要技术参数

• 1. 加热功率：   5KW

•     加热形式：   1400型优质硅碳棒

•                        左右两面加热，温场均匀，能耗低

•  升温速率建议:10℃/Min Max:20℃/Min

• 1. 炉膛尺寸：    500mm*400mm*400mm（长方体）

• 2. 外形尺寸：    4800mm*5300mm*5600mm(高/宽/长）

• 3. 保温材料：    1400型高纯氧化铝微晶体纤维，保温性能好

• 4. 装料方式：    前侧装料

• 5. 气氛种类：    惰性气体（氮气，氩气）

• 6. 常规中空度：  6.7x10^(-2) Pa

• 7. 较限真空度：  6.7x10^(-3) Pa

• 8. 较限充气压力：≤0.05Mpa

• 9. 长期使用压力：≤0.04Mpa（微正压、表压）

• 10. 控制精度：    ±1 ℃

• 11. 热电偶型号：B型

• 12. 温控控制：    30段程序控温系统，PID控制

• 13. 内外层炉壳：  SECC钢板防锈处理，并经粉体烤漆处理

• 14. 设备表面温度：≤60℃

• 15. 数据导出系统：可通过USB将升降温工艺导出，曲线图显示

• 一、 结构组成

• 真空电阻炉主要由炉体、加热保温系统、真空系统、气氛控制系统、水冷系统、电器控制系统等组成。

          VRSF1200系列真空电阻炉：

• VRSF12-10	100*100*100	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	1 KW	单相 220V	电阻丝	K型
  VRSF12-30	300*200*200	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	4 KW	单相 220V	电阻丝	K型
  VRSF12-40	400*300*300	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	9 KW	三相 380V	电阻丝	K型
  VRSF12-50	500*400*400	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	15 KW	三相 380V	硅碳棒	K型
  VRSF12-60	600*600*600	0.005 Pa	0.05 Pa	1200℃	1100℃	40 KW	三相 380V	硅碳棒	K型

可根据客户实际使用温度、尺寸定制。