主营：高纯金属,高纯化合物,溅射靶材,高熵合金,3D打印粉
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1
发布时间:
2025-03-12
有效期至:
2025-04-12
品名：铜粒
纯度：4N
用途：科研
规格：φ3*5mm
包装：100g
适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。