主营：铝溅射靶材,溅射靶材,磁控溅射靶材,铝蒸镀材料,蒸镀材料,铝高纯材料,高纯材料,稀土材料
所在地:
广东 深圳
产品价格:
电议
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1
发布时间:
2021-11-30
有效期至:
2021-12-30
电子级硼酸三甲酯TMB
一、分子式: B(OCH3)3
二、分子量:103.92
三、理化性质
无色液体，无明显气味，性质稳定。熔点-29℃，密度0.915g/ml，沸点67～68℃。易燃，
与能发生强烈反应。水解生成甲醇和硼酸，能溶剂混溶。
四、用途
主要用于晶圆制造过程中化学气相沉积（CVD）生成硼磷硅酸玻璃（BPSG）。是半导体、
分立器件、微机电系统（MEMS）制造所需的重要电子化学品。
CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
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Dielectrics PMD/IMD |
TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB |
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Low K Dielectrics |
4MS ,OMCATS |
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High K Dielectrics |
TAETO (Ta2O5 Precursor ) TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor) TMA (Al2O3 Precursor) |
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Metal Gate and Interconnect Metal |
TDMAT (TiN Precursor ) TiCl4 ( Ti /TiN Precursor ) |
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Low-Temp Nitride/Oxide |
HCDS |
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Diffusion |
POCl3 |
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宋华 （联系时请告诉我是"铝道网看到的 信息，会有优惠哦！谢谢！）
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