日立分析仪器新一代OE750直读光谱仪

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用于一体金属分析控制、质量控制，绝不妥协、高性能金属分析，价格合理

由于复杂的供应链，以及作为基础材料使用的废旧金属数量的增加，铸造厂和金属制造商在控制熔体中的杂质和痕量元素时，面临着更多的压力。新型OE750型直读光谱仪具有从未有过的性能水平。它涵盖金属中所有元素的光谱，并实现对某些元素的检出限。因此，此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平，可为众多铸造厂和金属制造商提供优质分析。

OE750实现高分辨率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。因此，这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围；这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要，该分析仪可以满足新的ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法的要求。

OE750是铝铸件的理想光谱仪，因为它可以测定亚共晶和过共晶铝硅合金中含量较低的磷。它可以分析锑、铋、锶和钠，以及杂质和痕量元素，从而确保这些元素能够被控制在铝熔体中，以优化结构改造。创新性光学设计能实现更短的启动时间，因为光学系统的体积相对较小。这有助于那些需要在多点测量验证熔体质量的工厂实现高批量生产。

除了新的光学设计之外，OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台，具有优化层流设计，可降低氩气消耗，降低污染的可能性，并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%，并避免油气污染，从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

除创新性硬件技术外，新型OE750还包括可提高性能的软件。例如，它包括日立牌号数据库，该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准，减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。可选的炉料校正软件会自动计算添加至熔体中的正确材料量，使其符合规范。

日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示：“在过去，铸造厂和金属加工企业在购买仪器时，不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750，他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供一体的金属分析。”

介绍OE750：专为全新级OES分析而设计

OE750是这款自创性设备。这款OES光谱仪具有但其购买价格优惠，运行成本合理。目前，其是同类产品中能够实现全新级OES分析的光谱仪，例如：

分析钢铁中所有合金、处理、痕量元素、残余元素和夹杂元素的能力。OE750能提供较低的检出限，可检测含量低于10ppm的锑、硼、铅、氮、锌、铋、硒和碲。

符合经修订的ASTM E415中有关碳钢和低合金钢测试方法和ASTM E1086中有关不锈钢分析标准测试方法的要求。此款分析仪可轻松检测含量为10ppm的氮元素。

允许铝压铸机将近共晶和过共晶铝-硅合金中的磷、锑和铋的含量控制在较低限值内。控制此类元素及其他夹杂元素和痕量元素可确保铝加工厂对优化熔体结构具备更强的控制能力。

轻松检测含量为1ppm的废金属中的痕量元素，包括锌。这对回收汽车部件或分拣来料废品至关重要。

通过分析氮、氧和氢等气体元素，控制钛的生产。

分析精炼厂中铜阳较以及铸造厂中黄铜、青铜、锡青铜和其他铜合金的潜力。

一体的痕量元素分析，用于支持高等金属加工和成型厂所用进料的材料可靠性鉴定测试。

此款光谱仪的这些能力可确保铸造厂和金属加工厂初次无需出于成本考量而降低性能标准。对于铸造厂、炼钢厂、金属制造商和废金属厂而言，OE750以具有成本效益的价格，提供全新级OES分析。

质量控制，符合标准

OE750在同类产品中涵盖金属中元素的整个光谱，能提供某些低检出限。此性能通过构思新光学概念和发展其他技术创新而实现，例如新型密封火花台和火花放光源。

额外优点（例如：启动速度加快，维护间隔缩短）确保光谱仪支持高产量生产和高标准 的PMI质量保证计划。

迄今为止，在整个波长范围内ppm级别的高等金属分析需要昂贵的OES光谱仪。OE750已完全改变这一点。OE750设计的价格合理，可为铸造厂、金属加工公司和回收设施提供高精度现场分析。

您无须为了成本考量而降低性能标准。以下是五个原因：

在同类光谱仪产品中性能。

一项革命性的新型光学设计，为OE750提供了较高的光学分辨率和动态范围。该光谱仪可测量金属中所有ppm级别含量的元素。这对处于金属生产前沿的公司而言至关重要。例如，该光谱仪可满足新的ASTM E415测试方法对碳钢和低合金钢的要求。该光谱仪能够检测铝合金中10ppm级别含量的磷、硼和锑元素。OE750可确保来料符合指定标准，并有助于充分利用废料，例如，它可测量低于1ppm含量级别的锌元素。

OE750通过降低氩气消耗并提高电光转换效率的运行具有难以置信的成本效益。

OE750的创新设计还可为您带来其他益处。密封火花台具有优化气流设计，可降低氩气消耗，从而使氩气成本削减高达5,500美元/年（基于300次测量/天）。事实上，该组件位于密封装置中，可大限度地减少污染，从而减少光谱仪停止运行以进行维护的时间。该光谱仪可在中压环境下运行，由此允许使用仅在一段时间内需要工作的无油泵，可将泵的功耗降低90%，同时增加仪器的可用性。

带有高等软件选项的直观控件使OE750易于使用，是一笔宝贵的财产。

如果说这款光谱仪都难以使用，则世界上的技术便毫无实际用途。这就是我们确保OE750包含直观软件的原因，该软件专为支持当前的高性能金属分析而设计。例如，日立牌号数据库（GRADE Database）是标准配置，可确保立即访问来自69个国家/标准的339,000多种材料中的1,200多万条记录。另一个示例是可选炉料校正软件，该软件可在计算能使熔体符合规格的成本效益的方法时，考虑熔炉容量和可用材料。

延长正常运行时间和减少维护，可确保您在生产过程中有条不紊。

如上所述，密封光学设计可降低污染的几率，由此节省维护、标准化和透镜清洁时间。通过减小光室的体积，可确保OE750在一小时内随时进行大量分析（尽管对于远紫外波长和氮的分析而言，可能需要较长时间）。可根据需要进行尽可能多的测量，以确保生产符合规格。

高等数据管理允许保存完整记录，使审计时的一切事项变得更简单。

OE750配备有与日立ExTOPE Connect高等数据管理和存储服务连接的内置连接器。可免费获得无限制的安全数据存储，并可从任何连接的计算机上访问结果。可从一个集中位置管理多台光谱仪，即使这些光谱仪分散在不同场所。这使得存储大量数据并在需要时检索数据变得更加容易，例如在审计期间或响应客户请求时。