半导体高纯水设备、医药用水超纯水制备

  半导体超纯水是美国科技界为了研制纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的*临界精细技术生产出来的水。这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，较没有细菌、、含氯等youji物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。*纯水无硬度，口感较甜，又常称为软水，可直接饮用，也可煮沸饮用。*纯水,是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18(没有明显界线)，则称为*纯水。


工业超纯水是指化学药剂、化肥及精细化工、化妆品、电镀、电池(蓄电池)制造过程工艺纯水，纺织印染工艺所需的软化水及除盐纯水。

工业超纯水设备系统采用多介质过滤器、活性炭过滤器作及保安过滤器作为前级处理，有效除去原水中的悬浮物、泥砂、微粒、硅胶体、异味、余氯等杂质，使经过离子交换处理后的水质符合工业生产要求。在经过后端进行精处理系统（混床系统），使其产水水质满足生产用水的要求。

电子工业级纯水概述

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、**线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、*大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、*纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

制备电子工业超纯水的工艺流程

采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业*纯水的的方式，这是一种制取*纯水的较新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的*纯水制备工艺.

电子*纯水设备基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→*纯水箱→*纯水泵→后置保安过滤器→用水点

电子工业超纯水的应用领域

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用*纯水 

*纯材料和*纯化学试剂勾兑用*纯水； 

光学玻璃镀膜、光电子及光纤 

超纯材料和*纯化学试剂 

汽车、家电表面抛光处理；

光伏电子产品；

其他高科技精微产品；

半导体高纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业*纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。

半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗； 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备

电子管生产、显像管和阴较射线管生产配料用纯水；

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；

集成电路生产中高纯水清洗硅片；

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；

**显像管、萤光粉生产；

汽车、家电表面抛光处理

*纯水设备离子交换的基本工作原理是：

a、**电解质离子(钙、镁、铁、钠等离子)穿过液膜进入树脂表面;

b、离子进入树脂内部;

c、离子交换;

d、H离子或OH根离子向树脂外部扩散;

e、H离子或OH根离子进入水中形成H2O。双床又称复床，复床是用阳、阴两种不同的离子交换的交换器的串联方式，如强酸性阳离子交换树脂和强碱性阴离子交换树脂串联的方式。这种阳床和阴床串联组成的设备称为复床，水先经过阳床除去带正电的离子(如Ca2 、Mg2 、K 、Na )，并且置换出H 离子到水中;然后除去水中的阴性离子(如SO2-4、Cl-、HCO- 3)，并且置换出OH-离子到水中。同时，H 离子和OH-离子结合形成水H2O，从而达到去离子的作用。

本公司*纯水设备系统特点：

稳压范围宽，输入电压变动±20%仍可正常使用。

**，产品具有功率因素校正电路，功率因数可达0.98以上。

输出电压电流无级连续可调,稳压稳流自动切换.

负载由较小至较大值的稳流变化小于0.1%.

安全性能高,输出端可任意短接不会造成机器损坏,且短接电流可由零至较大值连续调整.

采用较好的高频脉宽调制技术,具有稳定度强、精度高，体积小、重量轻、功耗低等特点。

超纯水设备优点：

1、可连续，稳定地生产**纯水，无需因树脂解析而停机；

2、没有污染物排放，既环保又省去了废液处理的投资；

3、设备结构紧凑，占地面积小，节省空间，同时还具有节能优点；

4、出厂完成装置调试，现场工作量小，上岗培训容易；

5、日常保养，操作简单，劳动强度低。